AFM, SEM, Auger 및 FIB에 대한 고배율, 고해상도 참조 및 보정 표준

주사 전자 현미경, 원자력 현미경, 오거 및 집속 이온 빔을 위한 홀로그래픽 격자

정밀한 홀로그램 패턴은 정확한 보정을 제공하며 높은 안정성과 사용성을 자랑합니다. 적당한 능선 높이는 AFM에 편리합니다. 표본은 SEM을 사용한 이차 및 후방 산란 이미징에 좋은 대비를 제공합니다. 그들은 고해상도 나노미터 규모의 측정을 위해 정확한 보정을 가능하게 합니다. 145 및 292nm 피치로 제공됩니다.

AFM용 145nm 피치 보정 표준

정밀한 보정을 위한 정밀 홀로그램 패턴으로 고해상도 나노미터 스케일 측정을 가능하게 합니다.

• 주기: 145nm 피치 공칭, 1차원 배열. 정확도는 +/- 1nm입니다. 교정 증명서는 표준의 실제 피치를 제공합니다.
• 표면 구조: 유리 위의 알루미늄 선, 4x6mm 크기. 선 높이(약 100nm)와 선 폭(약 75nm)은 보정되지 않습니다.
• 사용성: 보정된 패턴은 전체 표준을 포함합니다. 이전 스캔으로 오염되거나 변경된 영역을 재사용하지 않고도 수만 번의 측정을 수행할 수 있는 충분한 사용 가능한 영역이 있습니다.
• AFM: 접촉 모드, 탭핑 모드 및 이미지 크기가 250nm에서 10um인 기타 모드에서 사용합니다. 12mm 강철 AFM 디스크에 장착되지 않거나 장착할 수 있습니다.
• 인증: 일괄 측정을 기반으로 한 평균 피치를 명시한 추적 불가능한 제조업체의 인증서가 함께 제공됩니다.

145nm 피치 보정 표준을 위한 샘플 인증서

292nm 피치 고배율, AFM, SEM, Auger 및 FIB용 고해상도 보정 표준.

높은 대비와 뛰어난 엣지 정의를 갖춘 정밀 홀로그램 격자 표준.

• 주기: 292nm 피치 공칭, 1차원 배열. 정확도는 +/- 1%입니다. 교정 증명서는 표준의 실제 피치를 제공합니다.
• 표면 구조: 실리콘 위의 티타늄 선, 4x3mm 크기. 선 높이(약 30nm)와 선 폭(130nm)은 보정되지 않았습니다.
• 사용성: 보정된 패턴이 칩 전체를 덮습니다. 이전 스캔으로 오염되거나 변경된 영역을 재사용하지 않고도 수만 번의 측정을 수행할 수 있는 충분한 사용 가능한 영역이 있습니다.
• AFM: 접촉 모드, 탭핑 모드 및 이미지 크기가 500nm에서 20um인 기타 모드에서 사용합니다. 12mm 강철 AFM 디스크에 장착됩니다.
• SEM, Auger, FIB : 광범위한 가속 전압(< 1kV-30kV)에 사용할 수 있으며 이미지를 5kX에서 200kX까지 보정합니다. 장착되지 않은 상태로 제공하거나 원하는 SEM 스텁에 장착할 수 있습니다.
• 인증: 배치 측정을 기반으로 한 추적 불가능한 제조업체의 인증서에 평균 피치가 명시된 버전이 있습니다; 샘플 인증서 참조, 추적 불가능 PTB(독일 브라운슈바이크의 Physiklisch-Technischen Bundesanstalt)에서 보정된 표준과 비교하여 측정된 추적 가능한 인증 버전도 있습니다, 는 NIST의 독일 대응물입니다). 이 표준은 NIST와 PTB의 상호 인정 계약 덕분에 NIST 추적이 가능합니다.