Yttrium Oxide / Yttria / Y₂O₃ / 이트륨옥사이드 / 이트리아

우수한 내열성과 화학적 안정성을 갖춘 고순도 희토류 산화물 세라믹 소재

이트륨옥사이드(Yttrium Oxide, Y₂O₃)는 높은 융점과 우수한 내열성, 전기절연성 및 플라즈마 내식성을 갖춘 기능성 세라믹 소재입니다.
스퍼터링 타겟, 튜브, 판재, 기판, 봉재, 디스크, 분말 및 정밀 가공품 등 다양한 형태로 활용되며, 반도체 공정, 박막 증착, 고온 장비 및 첨단소재 연구 분야에 적용됩니다.

1. 제품소개

Yttrium Oxide(Y₂O₃)는 이트륨(Y)과 산소(O)로 구성된 희토류 산화물계 세라믹 소재입니다.

높은 융점과 우수한 화학적 안정성을 갖추고 있으며, 전기절연 특성과 특정 플라즈마 환경에서 우수한 내식성을 나타내는 고기능성 소재입니다.

특히 반도체 제조장비의 플라즈마 노출 부품, 스퍼터링 타겟, 광학 소재 및 고온용 세라믹 부품에 활용됩니다.

고순도 분말부터 소결체, 박막 증착용 타겟 및 정밀 가공품까지 다양한 형태로 공급할 수 있습니다.

2. 제품특징

우수한 내열성과 고온 안정성
높은 융점을 가진 산화물 세라믹으로 고온용 소재 및 산업장비 부품에 활용됩니다.

우수한 플라즈마 내식성
특정 반도체 플라즈마 공정에서 식각과 부식에 대한 저항성이 우수합니다.

높은 화학적 안정성
다양한 산업 환경에서 안정적인 특성을 나타내며 기능성 세라믹 부품에 활용됩니다.

우수한 전기절연성
전기적 절연이 필요한 산업용 부품 및 전자재료에 적합합니다.

광학 소재로 활용
적절한 순도와 미세구조를 갖춘 경우 광학용 투명 세라믹 및 기능성 광학 소재로 활용할 수 있습니다.

다양한 형상 제작
타겟, 튜브, 판재, 기판, 봉재, 디스크 및 도면에 따른 정밀 가공품 제작이 가능합니다.

3. 라인업

Y₂O₃ Sputtering Target / 스퍼터링 타겟
박막 증착 및 기능성 코팅 연구용 세라믹 타겟

Y₂O₃ Powder / 분말
고순도 세라믹 제조 및 기능성 소재 연구용 분말 원료

Y₂O₃ Plate / 판재
반도체 장비 및 산업용 세라믹 평판 소재

Y₂O₃ Substrate / 기판
박막 증착 및 전자·광학 소재 연구용 기판

Y₂O₃ Tube / 튜브
고온 장비 및 산업용 세라믹 튜브

Y₂O₃ Rod / 봉재
정밀 가공 및 산업용 구조부품 제작용 봉재

Y₂O₃ Disc / 디스크
원형 구조부품 및 소재 연구용 디스크

Y₂O₃ Crucible / 도가니
고온 소재 연구 및 열처리 공정용 세라믹 용기

Y₂O₃ Custom Parts / 정밀 가공품
홀, 홈, 단차 및 특수 형상의 주문제작 부품

※ 제품 형태별 공급 및 제작 가능 여부는 소재 순도, 소결 방식, 크기와 요구 공차에 따라 달라질 수 있습니다.

4. 적용분야

반도체 제조 및 플라즈마 공정

스퍼터링 타겟 및 박막 증착

플라즈마 내식성 세라믹 부품

반도체 식각장비용 부품

고온 장비 및 열처리 설비

전자·전기 절연용 소재

광학용 세라믹 및 기능성 광학 소재

고순도 세라믹 제조

희토류 산화물 연구

첨단 신소재 및 산업용 정밀부품

5. 주문제작 안내

사용 목적과 장비 조건에 따라 다양한 규격과 형상의 Y₂O₃ 제품을 주문제작할 수 있습니다.

1. 소재명 / 재질

2. 제품 형태

3. 외형 치수

4. 공차

5. 가공 형상

6. 표면 상태

7. 사용 온도 또는 사용 조건

8. 수량

9. 도면 및 기타 요구사항

스퍼터링 타겟은 소재 순도, 직경, 두께, 소결 밀도, 표면 상태 및 백킹 플레이트 유무를 함께 알려주시면 제작 가능 여부를 검토할 수 있습니다.

정밀 가공품은 사용 환경, 요구 치수 및 표면조도 등을 확인하여 적합한 소재와 가공 방식을 검토합니다.